开启全网商机
登录/注册
(略) | |
项目所在采购意向: | (略)2024年6至12月政府采购意向 |
采购单位: | (略) |
采购项目名称: | (略) |
预算金额: | (略) |
采购品目: | (略) |
采购需求概况 : | (略)以单原子膜形式逐层镀在基底表面,与普通的化学沉积有相似之处,但在原子层沉积过程中,新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的,每次反应只沉积一层原子。用于先进钙钛矿太阳电池中金属氧化物薄膜SnO2,Al2O3,TiO2等的沉积。 原子层沉积功能: 1)设备类型:真空外加热水平横流式镀膜,加热系统在真空室外,反应气体和载气不可以任何方式接触加热器,反应物和吹扫气流在腔室一侧流出,从基片一边水平流经基片后,从腔室另一侧的真空抽气口进入真空泵。 2)载片量及尺寸:400×400mm向下兼容。 3)真空计:配置薄膜真空计+皮拉尼真空计用于真空测量,测量范围5E-5 torr-大气压。 4)控制系统:配置高精度PLC+工控机沉积自动控制系统,满足高精度ALD沉积需求图像化的操作界面,实时显示系统各部分运行状态。 原子层沉积主要参数: 1)反应区温度:要求在50-150 ℃之间可以均匀成膜,反应温度不得超过120 ℃; 2)前驱体源:3路金属源,1路水源,金属源及管路加热温度RT-200 ℃;金属源及水源分别通过1路N2流量计控制流量。 |
预计采购时间: | (略) |
备注: |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。